技术突破案例:2025 年 Q2,某国内公司的 ArF 光刻胶通过中芯国际 14nm 制程认证,开始小批量供货(月产能 50 吨),打破日本企业垄断;另一公司的 KrF 光刻胶在华虹半导体的 28nm 产线实现量产,供货占比从 8% 提升至 15%。
吴老师筛选标准:① 研发投入占比≥15%(光刻胶研发需要持续投入);② 已通过至少 1 家国内主流晶圆厂(中芯国际、华虹、长江存储)的认证;③ 高端光刻胶(KrF/ArF)营收占比≥20%(避免只做中低端、竞争激烈的公司)。
吴老师实战点评:“2024 年我推荐的某光刻胶公司,当时研发投入占比 18%,刚通过华虹认证,股价还在低位;2025 年它的 ArF 光刻胶量产,股价涨了 120%—— 选光刻胶公司,核心看‘认证进度’和‘高端产品占比’,这两个指标决定了成长空间。”
机会逻辑:大硅片是半导体材料中市场规模最大的品类(占比 35%),12 英寸硅片是先进制程(7nm-28nm)的核心,国内 12 英寸硅片进口占比超 90%,但 2024-2025 年多家公司实现产能突破,国产替代率从 5% 升至 12%,未来 3 年有望突破 25%。
技术突破案例:某国内大硅片公司 2025 年 Q3 的 12 英寸硅片月产能达 30 万片(2024 年同期仅 12 万片),其中 80% 供应中芯国际、长江存储,良率从 82% 提升至 90%(接近国际巨头 92% 的水平);另一公司的 12 英寸重掺硅片通过英飞凌认证,进入汽车半导体供应链。
吴老师筛选标准:① 12 英寸硅片产能≥15 万片 / 月(产能是规模化替代的基础);② 良率≥85%(良率低则成本高,无法竞争);③ 下游客户包含至少 1 家先进制程晶圆厂(如中芯国际 14nm 产线)。
吴老师风险提示:“大硅片的产能建设周期长(18-24 个月),且需要持续投入设备升级,要警惕‘产能规划大但落地慢’的公司 ——2025 年某公司宣称 12 英寸产能达 20 万片 / 月,但实际投产仅 8 万片,股价跌了 40%,这就是‘伪产能’的坑。”
机会逻辑:电子特气是芯片制造中用于清洗、蚀刻、掺杂的关键气体(如高纯氨气、硅烷),全球市场被美国空气产品、法国液化空气垄断(合计占比 60%),国内电子特气国产化率约 15%,但在中低端领域(如高纯氮气)已达 50%,高端领域(如光刻气、掺杂气)正快速突破。
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